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Sehr geehrte Damen und Herren,

möchten Sie mehr über die Grundlagen der  Partikelcharakterisierung erfahren?

Dann besuchen Sie eines unserer neuen Grundlagenseminare.
Wir würden uns sehr über Ihr Kommen freuen!

Grundlagenseminar: Angewandte Partikelmesstechnik
13. März 2012 in Augsburg
15. März 2012 in Oberhausen
22. Mai 2012 in Hannover
24. Mai 2012 in Frankfurt
Zur Registrierung

Seminarinhalte:
Bei der Herstellung und Formulierung verschiedenster Produkte ist die Partikelgröße ein sehr wichtiger und bereits etablierter Parameter. Immer häufiger reicht dieser alleine allerdings nicht mehr aus. Hier kommen heutzutage moderne, automatisierte Bildanalysesysteme zum Einsatz und liefern zusätzliche Formparameter. Das Zetapotenzial zur Oberflächenladungscharakterisierung ist ebenso ein häufig verwendeter Parameter wenn es um Stabilitätsaussagen geht.
Ziel dieses Seminars ist es, die Grundlagen einiger Verfahren zur Bestimmung obiger Parameter zu vermitteln und die Anwendungsmöglichkeiten und Grenzen dieser Verfahren anhand von Praxisbeispielen aufzuzeigen.

Folgende Messmethoden werden vorgestellt:

  • Laserbeugung
  • Luftstrahlsiebung (Vortrag Firma Hosokawa Alpine)
  • Dynamische Lichtstreuung
  • Laserdoppleranemometrie
  • dynamische und statische Bilderfassung
Aufgrund der begrenzten Teilnehmerzahl bitte ich Sie um eine frühzeitige Anmeldung.

Sollten Sie noch kein Passwort haben, registrieren Sie sich bitte zuvor und führen anschließend die Anmeldung durch.

Wir behalten uns das Recht vor, das Seminar bei Nichterreichen einer Mindestteilnehmerzahl abzusagen.

Mit freundlichen Grüßen

Birgit Toscha
Marketing Assistentin
Email birgit.toscha@malvern.com


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